**【题材前瞻】桌面级EUV突...

**【题材前瞻】桌面级EUV突破引发微纳制造革命，关注苏大维格及光刻产业链机会**

事件：6月3日，据媒体报道，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级EUV（极紫外）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的纳米结构加工压缩至数分钟。研究成果发表于《 》，未来有望应用于芯片制造、量子计算、纳米药物及新材料等领域。 点评：本次突破的核心意义并非挑战ASML先进制程产线，而是显著降低微纳制造研发门槛。过去EUV设备价格高达数亿美元，而此次桌面级方案实现了实验室级低成本验证能力，有望加速光子芯片、量子器件及先进材料研发迭代。 从产业趋势看，全球半导体制造正在从单一路径向“EUV+纳米压印+先进封装+光子集成”多技术路线演进。近期无论是高NAEUV、纳米压印（NIL），还是硅光CPO技术，均指向微纳结构制造能力的重要性持续提升。 光刻产业链方面，建议关注： 苏大维格——微纳制造+纳米压印核心平台； 茂莱光学——高端光学系统及光刻配套光学器件； 波长光电——精密光学元件及激光光学产业链； 张江高科——参股国产光刻机核心企业，具备产业投资属性； 海立股份——参股上海微电子，受益国产光刻设备推进； 芯碁微装——直写光刻设备龙头，受益先进封装及先进制造需求； 总体来看，本次桌面级EUV事件本质是“微纳制造降本增效”的重要信号。随着AI时代光芯片、硅光、量子计算等新需求持续释放，具备微纳制造底层能力的平台型企业有望迎来价值重估。