半导体设备光刻机更新 由先进...

由先进半导体产业集群主办的2025中国国际半导体先进技术与应用大会，将于4月22日在苏州举办。

全球晶圆厂设备开支保持强劲，光刻机需求持续提升。

ASML预计到2030年，全球半导体销售额将超过1万亿美元，2025-2030年CAGR达9%；2025年-2027年，全球300mm晶圆厂设备支出预计分别1232亿美元/1362亿美元/1408亿美元，同比分别增长24%/11%/3%。

光刻机是半导体设备中市场占比最大品类，市场占比达24%。

伴随先进逻辑和存储芯片制程持续迭代，EUV光刻机占比持续提升。

目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能垄断，实现光刻机的国产化势在必行，具有重大战略意义。

光刻机产业链长，价值量高、自主可控迫切性强。

从工信部官网公开的DUV相关参数信息看到，国内相关企业在光刻机领域已经取得了显著的进步。

地位：目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，出货量已占国内市场份额超过80%。

产品领域：产品主要涉及ArF（氟化氩）、KrF（氟化氪）和i-line领域。

技术能力：已具备90nm及以下的芯片制造能力。

张江高科于2024年10月，通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22,345万元人民币，持有上海微电子公司10.779%的股权。

地位：全球领先的非线性、激光晶体及激光光学元器件制造商。

参与项目：参与了目前国内DUV光刻机光源系统、照明系统以及物镜系统的研发制造。

技术成果：光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。

茂莱光学为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。

研发领域：针对准激光光源，主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等。

地位：国内最重要的特种光学镜头、光电系统重要供应商。

产品供应：给长光所供投影物镜的部分镜片以及结构件以及照明系统的中继镜。

地位：国内激光光学元件的主要供应商。

能力：已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

*本文仅作为行业分析和信息分享参考，不构成任何投资建议！