半导体更新 ①国内GPU独角...
发布者:乐晴
①国内GPU独角兽摩尔线程定价确定。发行价格:114.28元/股,发行市值:537.15亿元,募集资金金额:80亿元。
②存储龙头SK海力士在韩国NEXTRADE盘前交易中一度下跌9.3%;三星在NEXTRADE盘前交易中下跌7.8%。
新闻“三星押注1c DRAM晶圆:2026年剑指月产20万片”以及“26年海力士1c DRAM产能从2万片增加至18万片”是否形成大扩产,是否影响周期,我们解读如下:
三星25年底DRAM产能约65-70万片,其中1c约5万片。明年1c节点上的15万片扩产预期并非完全新增扩产,部分新产能由较低节点转换而来(推测可能为一半),实际并未达到激进扩产。
海力士类似,25年底DRAM产能约55-60万片,其中1c约2万片。新闻中所说8倍产能以及14万片扩产计划,一方面夸张的倍数对应的是1c节点的低基数,另一方面扩产数包含了转产部分的产能,总产能增长并非这么多。
对原厂而言,过去几年的Capex投入(DRAM大头在HBM,NAND没有增长)以及扩产的周期限制了短时间内产能的大幅度扩张,较低节点的转产成为新增预期外产能最快的方式。
但是,转产同样会使得落后节点产能退出,总产能增长其实仅仅比市场估计的产能增加幅度略多,还远达不到激进扩产的程度。
国金电子樊志远团队 应明哲
根据我们的SiC深度报告:
-主流算力芯片基本标配CoWoS封装,因此我们认为AI算力芯片的发展亟需解决CoWoS封装散热的难题。
-CoWoS核心价值在于interposer(中介层)的连通作用,因为SiC在性能与可行性两方面的优势,有望成为未来CoWoS interposer的最适宜替代材料。
市场需求有望数倍增长
如CoWoS未来将Interposer替换为SiC,且如按CoWoS 28年后35%复合增长率和70%替换SiC 来推演:
需求: 30年对应需要超230万片12吋SiC衬底,等效约为920万片6吋。
供给: 2025年全球碳化硅衬底(6英寸等效)年产能预计超过300万片。
CoWoS对SiC的需求有望数倍于当前的全球供给总和。晶盛机电、晶升股份、天岳先进、三安光电、通威股份、天富能源、华纬科技、宇晶股份等。
风险提示:新技术推进不及预期、行业竞争加剧、地缘政治风险等。
花旗观点
在一次竞争对手会议上,美光首席财务官发表演讲并表示,其 HBM 供应在 2026 年已 “完全签约”,这证实了我们关于客户正在寻求多年期合同的判断。我们还继续预计,鉴于对内存需求的巨大增长将需要大幅增加产量和资本支出,美光及其他内存公司将获得人工智能客户的资本注入。
我们继续预计美光毛利率将恢复到历史最高水平的 60%,2026 年每股收益将达到 23.36 美元,比市场普遍预期高出 40%。我们重申对美光的买入评级和 275.00 美元的目标价。
HBM 2026 年产能现已售罄
美光管理层今天上午表示,其 HBM 供应(包括 HBM3E 和 HBM4)在 2026 年已 “完全签约”。
美光证实将签订多年期合同
该公司还证实了我们的猜测,即客户正在寻求签订多年期合同。我们认为,鉴于需求增加,人工智能公司需要确保 DRAM 供应是促成这一趋势的动力。我们相信这将通过更高且可持续的 DRAM 定价使美光受益。
下一步是注资
我们还继续预计美光和其他存储器公司将获得人工智能客户的注资,因为所需的存储器数量将需要大幅增加生产和资本支出。
我们比市场普遍预期高出 40%,预计下个月财报公布时会有上行空间
我们对 2026 财年每股收益的预估为 23.36 美元,比市场普遍预期高出 40%。我们预计美光下个月公布财报时会有上行空间。
重申买入 我们重申对美光的买入评级,并维持 275.00 美元的目标价,即 2026 年每股收益的 12 倍,略高于其历史平均水平,这得益于 DRAM 价格上涨和强劲的 AI 需求。
三星电子为应对全球人工智能 (AI) 基础设施投资扩大带来的半导体 DRAM 需求激增,决定将平泽和华城园区的部分 NAND 闪存生产线转换为 DRAM 生产设施。同时,平泽第四工厂 (P4) 也将采用最新制程 (1c) 打造为 DRAM 专用生产线,以实现收益最大化。
半导体业界的一位相关人士 20 日表示:“三星电子对 NAND 闪存市场持保守评估态度”,“由于通用 DRAM 需求大幅增加且价格预计持续上涨,正在推进增产工作。”
作为辅助中央处理器 (CPU) 和图形处理器 (GPU) 高速运算的内存半导体,近期因全球科技巨头竞相投资 AI 基础设施而出现供不应求现象。
特别是 DRAM,当前市场需求被证实达到三星电子、SK 海力士和美光等三大内存厂商供应能力的三倍。
据业界透露,部分企业曾向三星电子提出将 96GB、128GB 双倍数据速率 5 (DDR5) 等大容量服务器用 DRAM 价格上调 70%,但因供应短缺未能确保采购量。
主要科技巨头预测 DRAM 短缺现象将持续,已启动 2027 年供应量谈判。
三星电子计划将部分 NAND 闪存生产设施转换为 DRAM 生产线,以应对激增的需求。目前,三星电子在平泽 1 工厂 (P1)、3 工厂 (P3) 和华城校区生产 DRAM 和 NAND 闪存。
平泽 P1 和华城校区是分别生产 DRAM 和 NAND 闪存的混合生产线。三星电子将通过减少 P1 和华城校区的 NAND 闪存生产设施并扩充 DRAM 生产设施的方式进行扩建。
此外,正在收尾施工的 P4 也将作为 10 纳米级第六代 (1c) DRAM 生产设施竣工,并从明年开始投入运营。此外,公司还在考虑在原本计划建设晶圆代工厂的 P4 第二区域生产 DRAM 的方案。
若明年上半年设备投资完成,平泽 P1 和华城园区等原有混合生产线将提高 DRAM 比重,P4 等地将新建 DRAM 生产线,产能将大幅提升。据悉,韩国减少的 NAND 闪存产量将通过增加中国西安工厂的产量来应对。业界相关人士表示:"NAND 闪存供应商众多,但 DRAM 全部由三大内存厂商掌控,增加高收益的 DRAM 生产将同步提升利润。"
*公开资料整理,仅作为行业分析参考,不构成投资建议!