1月 光刻机最新进展跟踪

美国商务部工业和安全局（BIS）发布了修订后的《出口管理条例》（EAR）,涉及中国、缅甸和巴基斯坦等三个国家的13家实体，其中，中国实体占11家， 此外，还有多家从事光学元件开发企业也被纳入名单，如成都雷电微力科技股份有限公司、成都亚光电子股份有限公司等。

长光所和上光所是光刻机产业链上的“排头兵”。此次新增被禁实体名单，是继12月初以来，1个月内又一次对国内企业单位的限制。

据公开信息，2015-2023年国内仅进口荷兰ASML一家光刻机台数即达915台，金额达232.42亿美元。在美国和盟国颁布限制措施后，中国从美国、荷兰、韩国进口的部分设备金额出现明显下跌。

光刻机产业链长，价值量高、自主可控迫切性强。

从工信部官网公开的DUV相关参数信息看到，国内相关企业在光刻机领域已经取得了显著的进步。

地位：目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，出货量已占国内市场份额超过80%。 产品领域：产品主要涉及ArF（氟化氩）、KrF（氟化氪）和i-line领域。 技术能力：已具备90nm及以下的芯片制造能力。

地位：全球领先的非线性、激光晶体及激光光学元器件制造商。 参与项目：参与了目前国内DUV光刻机光源系统、照明系统以及物镜系统的研发制造。

技术成果：光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。

研发领域：针对准激光光源，主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等。

地位：国内最重要的特种光学镜头、光电系统重要供应商。 产品供应：给长光所供投影物镜的部分镜片以及结构件以及照明系统的中继镜。

地位：国内激光光学元件的主要供应商。 能力：已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

据台湾电子时报消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）下周将由CEO克里斯托夫·富凯带领多位高层，与台积电董事长兼总裁魏哲家、共同营运长秦永沛等多位高管会面。供应链认为，ASML将进一步了解台积电未来数年制程技术Roadmap与采购计划，并希望台积电能加速并扩大下单要价近3.8亿美元的High NA EUV光刻机。

三星电子NRD-K半导体研发综合体进机将导入ASML High NA EUV光刻设备。NRD-K半导体研发综合体将成为三星电子DS部下属三大事业部（存储器、系统LSI和Foundry）的共同核心研发基地，到2030年这一项目将累计获得约20万亿韩元的投资。NRD-K综合体将导入ASML High NA EUV光刻机、新材料沉积设备在内的一系列最先进半导体生产工具，旨在加速3D DRAM、千层V-NAND在内的下代存储芯片开发。

Rapidus已开始在位于北海道的在建芯片制造工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备。 公司正与IBM合作，计划于2025年春季采用最先进的2nm工艺开发原型芯片，并于2027年实现量产。

附：光刻机产业链+研究报告。（知识星球APP和网页端都可以下载阅读）

*本文仅作为行业析参考，不构成投资建议！